TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀

簡要描述：TFMS-LD是一款反射光譜薄膜測厚儀，可快速精確地測量透明或半透明薄膜的厚度，其測量膜厚范圍為15nm-50um，儀器所發(fā)出測試光的波長范圍為400nm-1100nm。此款測試系統(tǒng)理論基礎(chǔ)為鏡面反射率，并且采用光纖反射探頭。儀器尺寸小巧，方便于在實驗室中擺放和使用。

產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2018-11-05
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TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀是一款利用反射光譜測試薄膜厚度的儀器，可快速精確地測量透明或半透明薄膜的厚度而不損傷樣品表面的薄膜，是一款無損測厚儀，其測量膜厚范圍為15nm-50um，測量膜厚范圍廣，尤其適用于超薄薄膜厚度的測量。儀器所發(fā)出測試光的波長范圍為400nm-1100nm，波長范圍廣，因此，測試薄膜厚度的范圍廣。TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀測試系統(tǒng)的理論基礎(chǔ)為鏡面光纖反射探頭，該儀器尺寸小巧可節(jié)省實驗室空間，操作方便，讀數(shù)直觀，方便于在實驗室中擺放和使用。

產(chǎn)品型號	TFMS-LD反射光譜薄膜測厚儀
測量膜厚范圍	15nm-50um
光譜波長	400 nm - 1100 nm
主要測量透明或半透明薄膜厚度	氧化物氮化物光刻膠半導(dǎo)體（硅，單晶硅，多晶硅等）半導(dǎo)體化合物（ALGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS等）硬涂層（碳化硅，類金剛石炭）聚合物涂層(聚對二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺) 金屬膜
特點	測量和數(shù)據(jù)分析同時進(jìn)行，可測量單層膜，多層膜，無基底和非均勻膜包含了500多種材料的光學(xué)常數(shù)，新材料參數(shù)也可很容易地添加，支持多重算法: Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等體積較小，方便擺放和操作可測量薄膜厚度，材料光學(xué)常數(shù)和表面粗糙度使用電腦操作，界面中點擊，即可進(jìn)行測量和分析
精度	0.01nm或0.01%
準(zhǔn)確度	0.2%或1nm
穩(wěn)定性	0.02nm或0.02%
光斑尺寸	標(biāo)準(zhǔn)3mm,可以小至3um
要求樣品大小	大于1mm
分光儀/檢測器	400 - 1100 nm 波長范圍光譜分辨率: < 1 nm 電源 100-250 VAC, 50/60 Hz 20W
光源	5W的鎢鹵素?zé)?/span> 色溫：2800K 使用壽命:1000小時
反射探針	光學(xué)纖維探針，400um纖維芯配有分光儀和光源支架
載樣臺	測量時用于放置測量的樣品
通訊接口	USB接口，方便與電腦對接
TFCompanion軟件	強(qiáng)大的數(shù)據(jù)庫包含兩500多種材料的光學(xué)常數(shù)（n：折射率，K：消失系數(shù)）誤差分析和模擬系統(tǒng)，保證在不同環(huán)境下對樣品測量的準(zhǔn)確性可分析簡單和復(fù)雜的膜系
設(shè)備尺寸	200x250x100mm
重量	4.5kg