振動樣品臺

簡要描述：振動樣品臺主要適用于我公司制造的VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀、VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀。用于對粉末樣品的濺射鍍膜使用，由于樣品臺的不斷振動，使粉末顆粒樣品不斷進行翻轉，從而使粉末顆粒的整個外表面全部濺射上所需要的薄膜材料，或用薄膜材料將粉末進行包覆。

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廠商性質：生產廠家
更新時間：2019-01-31
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振動樣品臺主要適用于我公司制造的VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀、VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀。用于對粉末樣品的濺射鍍膜使用，由于樣品臺的不斷振動，使粉末顆粒樣品不斷進行翻轉，從而使粉末顆粒的整個外表面全部濺射上所需要的薄膜材料，或用薄膜材料將粉末進行包覆。樣品臺的振動頻率可以根據需要在6-33Hz之間進行調節，所能進行振動的粉末樣品顆粒直徑范圍廣，在 1-1000um之間，適用于絕大多數的粉末顆粒樣品。振動樣品臺結構小巧易于安裝，是用VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀、VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀進行粉末樣品濺射鍍膜時*的輔助設備。

振動樣品臺

1、振動樣品臺安裝在真空腔體底部

2、粉末放置于樣品臺上，濺射時粉末振動翻轉，對粉體表面進行包覆

1、樣品臺振動頻率可調節：6-33Hz

2、樣品臺直徑為50mm

3、建議樣品量: < 500 mg

4、建議顆粒尺寸: 1 ~ 1000um

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振動樣品臺

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