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HP-500V真空加熱平臺

簡要描述：HP-500V真空加熱平臺主要適用于加熱時不會發生性質和形狀改變的材料，即不受加熱影響的材料，尤為適用于對溫度敏感材料（如晶體、半導體、陶瓷、金屬等材料）的加熱。

  • 產品型號：
  • 廠商性質：生產廠家
  • 更新時間：2024-03-30
  • 訪  問  量：1090

詳細介紹

品牌其他品牌產地類別國產
應用領域綜合

IMG_256HP-500V真空加熱平臺是專為材料加工及材料研究實驗室而開發，采用黃銅材質鑄造，升溫速度快，控溫精準，溫度高低可調，使用完畢后散熱速度快，最高溫度可達500℃，可滿足熱解噴涂的實驗使用需要，也可適用于燃料電池的基板涂敷。真空加熱平臺主要適用于加熱時不會發生性質和形狀改變的材料，即不受加熱影響的材料，尤為適用于對溫度敏感材料（如晶體、半導體、陶瓷、金屬等材料）的加熱。也可用于實驗室做化學分析、物理測定、熱處理時進行物品的烘焙、干燥以及其它溫度試驗加熱。設備結構簡單操作方便，是實驗室進行加熱用的合適工具。IMG_2581、加熱板選材黃銅，有*的抗腐蝕性能，加熱溫度高。
2、結構簡單，性能穩定，操作簡便，安全可靠。
3、加熱溫度可由室溫至500℃，配雙層散熱層，不變形。
4、加熱板帶有抽氣微孔，可以真空吸附較薄樣品。IMG_261

產品名稱      

HP-500V真空加熱平臺

產品型號      

HP-500V

主要參數      

1、電源電壓：AC220V,50Hz
2、加熱功率：3500W
3、適用溫度：≤500℃
4、控溫精度：±1℃
5、加熱板：350mm×240mm
6、真空吸盤尺寸：350mm×240mm

產品規格      

加熱平臺尺寸：350mm×240mm×210mm重量：32kg
無油泵尺寸：204mm×125mm×181mm；重量：9kg

 


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