UNIPOL-1202自動精密研磨拋光機

簡要描述：UNIPOL-1202自動精密研磨拋光機是用于晶體、陶瓷、金屬、玻璃、巖樣、礦樣等材料的研磨拋光制樣，是科學(xué)研究、生產(chǎn)實驗Z理想的磨拋設(shè)備。本機設(shè)置了Φ300mm的研磨拋光盤和兩個加工工位，可用于研磨拋光≤Φ105mm的圓片或?qū)蔷€長≤105mm的矩形平面。若配置適當(dāng)?shù)母郊膳可a(chǎn)高質(zhì)量的平面磨拋產(chǎn)品。

產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2022-11-23
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詳細(xì)介紹

品牌	其他品牌	尺寸（LWD）	尺寸：700mm×420mm×350mm；重量：80kg
磨盤個數(shù)	1個	磨盤尺寸	300mmmm
轉(zhuǎn)速	0-125rpmrpm	價格區(qū)間	1-5萬
產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	化工,石油,地礦,電子/電池,綜合

UNIPOL-1202自動精密研磨拋光機是用于晶體、陶瓷、金屬、玻璃、巖樣、礦樣、PCB板、紅外光學(xué)材料（如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體）、耐火材料、復(fù)合材料等材料的研磨拋光制樣，是科學(xué)研究、生產(chǎn)實驗理想的磨拋設(shè)備之一。本機設(shè)置了?300mm的研磨拋光盤和兩個加工工位，可用于研磨拋光≤?105mm的圓片或?qū)蔷€長≤105mm的矩形平面。在研磨過程中兩個加工工位可以一定的頻率左右擺動，同時推動載物塊左右擺動，載物塊在進(jìn)行自轉(zhuǎn)的同時隨著研磨盤公轉(zhuǎn)，使樣品做無規(guī)則運動，使研磨后的樣品表面質(zhì)量均勻。研磨拋光機配備的載物塊是具有高的平面度和平行度的精密圓柱狀金屬塊，使研磨后的樣品表面也具有高的平面度，并且不會使樣品邊緣倒角，對邊緣要求高的樣品尤其適合。若配置適當(dāng)?shù)母郊℅PC-80A精密磨拋控制儀），可批量生產(chǎn)高質(zhì)量的平面磨拋產(chǎn)品。搭配GPC-80A使用尤其適用于地質(zhì)薄片樣品的研磨與拋光。UNIPOL-1202精密研磨拋光機可以用研磨盤加磨料的方式研磨樣品，也可以選用拋光盤貼砂紙的方式研磨樣品，砂紙或拋光墊采用磁力吸附的方式裝卡，裝卸方便。具體選用砂紙研磨還是磨料研磨可根據(jù)被研磨樣品的材質(zhì)進(jìn)行選擇。1、超平拋光盤（平面度為每25mm×25mm小于0.0025mm）。
2、超精旋轉(zhuǎn)軸（托盤端跳小于0.01mm）。
3、設(shè)有兩個加工工位。
4、主軸旋轉(zhuǎn)采用無級調(diào)速控制方式，并設(shè)有數(shù)顯表實時顯示轉(zhuǎn)數(shù)。
5、配有定時器，可準(zhǔn)確控制工作時間（0-300h之間）。
6、可選配自動滴料器或循環(huán)泵，使磨拋更加方便快捷。

產(chǎn)品名稱	UNIPOL-1202自動精密研磨拋光機
產(chǎn)品型號	UNIPOL-1202
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有上水口及下水口，需自行連接自來水及排水 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：無 4、工作臺：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置：不需要
主要參數(shù)	1、電源：110V/220V 2、功率：275W 3、主軸轉(zhuǎn)速：起動轉(zhuǎn)速范圍10~125rpm 4、工位：2個 5、支撐臂擺動次數(shù)：0-9次/分 6、托盤端跳：0.008mm/250mm 7、磨拋盤：?300mm 8、載物盤：?105mm
產(chǎn)品規(guī)格	尺寸：長550mm×寬700mm×高400mm；重量：80kg

序號	名稱	數(shù)量	圖片鏈接
1	鑄鐵研磨盤	1個
2	鑄鋁盤	1個
3	載物盤	2個
4	修盤環(huán)	2個
5	拋光墊（磨砂革、合成革、聚氨酯）	各1片
6	剛玉研磨微粉	0.5kg
7	石蠟棒	4根

序號	名稱	功能類別	圖片鏈接
1	SKZD-2滴料器	（可選）
2	SKZD-3滴料器	（可選）
3	SKZD-4自動滴料器	（可選）
4	SKZD-5滴料器	（可選）
5	YJXZ-12攪拌循環(huán)泵	（可選）
6	精密測厚儀	（可選）
7	GPC-50A精確磨拋控制儀	（可選）
8	陶瓷研磨盤	（可選）
9	玻璃研磨盤	（可選）
10	磁性樹脂金剛石研磨片	（可選）
11	無蠟拋光盤	（可選）