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GSL-1100X-PJF-A等離子表面處理儀是一款緊湊的大氣離子表面處理噴射系統(tǒng)，主要由射頻發(fā)生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件的環(huán)境下活化和清理材料（如單晶片、光學元件、塑料等）表面雜質(zhì)，且清理速度迅速。本機是為獲得高質(zhì)量的外延薄膜或光學涂層進行預(yù)先表面處理的合適的工具選擇。具有一個樣品臺，將樣品固定在樣品臺上后可進行X
PCE-3等離子清洗機使用空氣、氧氣、氬氣等離子去除納米級有機物污染，在射頻電源的作用下，Z大去除速率為10nm/min。在單晶材料外延薄膜生長以前對其進行預(yù)處理，將對生長具有顯著的作用。
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